真空光学镀膜机

真空光学镀膜机

商品名称: HYZK-1200真空光学(电子枪)镀膜机
型号: HYZK-1200
规格: Ф1200×H1300mm
商品描述:

HYZK系列真空光学(电子枪)镀膜机型号及技术参数
性能 型号
HYZK -900
HYZK -1200
HYZK -1300
镀膜室尺寸
Ф900×H1050mm
Ф1200×H1300mm
Ф1300×H1400mm
工装夹具
拱形单工件盘,更大限度满足客户对均匀性的需要,旋转5-30 r/min,无级变速
1.拱型单工件盘,满足客户对均匀性的要求,旋转530r/min,无级变速.
2.拱型三工件盘,行星公自转,满足客户对生产量的要求,旋转5-30r/min,无级变速
真空系统
扩散泵KT-600,罗茨泵ZJ-300,机械泵2X-70,维持泵2X-8,管路为304不锈钢.
扩散泵KT-900罗茨泵ZJ-600,滑阀泵H—150型,,维持泵2X-15,管路为304不锈钢.
扩散泵KT-900罗茨泵ZJ-600, 滑阀泵H—150型,,维持泵2X-15,管路为304不锈钢.
极限真空:优于6×10-4PA
配置防湍流装置,安全互锁设计,手动,自动可选
加热系统
发热管上加热方式,PID控制,最高350℃±1.5℃。
工作气体充气
气体质量控制仪或是手动微调充气阀
真空离子轰击
直流3KV,0.6KW棒状阴极(用于镀膜前自行对工件进行清洗)和气体离子源选配
蒸发源
(选配)
1.电子枪:6KW、高压4KV-10KV可调。定位扫描、三角波扫描、圆形扫描、螺旋扫描、方波扫描、正弦波、束斑聚焦性好、定位精度高、扫描再现性好。
2.坩埚:六穴Φ38*20坩埚或四穴Φ38*20加一穴中心弧长87的弧形坩埚(用于耗量大低熔点蒸发材料)或穴Φ48*18坩埚。
离子源
(选配)
1.5KVA霍两离子源:用于电镀前清洗或电镀过程进行辅助镀,有利于提高膜层折射率、牢固度、提高膜层致辞密性、附着力。
镀膜控制系统
(选配)
1.晶控器:可储存1-99层自动镀膜过程,99种程序数据,精度0.5$+1A固定误差。
2.光控器:采用多波长的全光谱终点分析技术,通过对监控片370-870mm的透射率(或反射率)曲线分析来判定膜层,控制精度高;也可采用单波长控制,自动控制和手动控制。附加MACILEOD膜系计算软件,一体化程度高。
3.光控器配合晶控器能满足高精度,高重复性的镀膜要求,与上位机配合可以实现自动控制
4.国产光控器:波长330-870可调,精度可达到±1.5NM。
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